“液相沉淀、气相沉积。”
思考了一会，他最终将目光落在了这两种制备方法上。
液相沉淀是通过化学反应使目标物质从溶液中析出，常见方式包括酸碱中和、盐析等等。
比如从饱和氯化钠（食盐）溶液中沉淀出食盐颗粒就是这种制备方法中的一种类型。
但液相沉淀产物多为无定形固相，粒径分布较宽，纯度受反应条件影响较大，很难在沉淀物上引导构造动能间隙结构。
“那么剩下的唯一方法就是气相沉积了。”
事实上，相对比液相沉淀法来说，气相沉积则更多用于高端材料制造如半导体芯片、光学涂层及超精细表面处理。
它的产品精度能够与光刻加工或光束加工相提并论。
但高精度气相沉积通常使用CVD化学气相沉积法，而这一方法需要800℃以上的高温，高温可能引起基体晶粒长大、力学性能下降或变形。
这也是徐川一开始没怎么考虑通过气相沉积法来制备光子时空晶体材料的原因。
因为一丁点的变形或缺点都会导致材料内部的动能间隙结构失效，导致时间反射过程无法正常进行。
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