把整个光路系统分成两步，正是高振东的主意。
第一步，相对简单一些，可以用于接触式或者接近式光刻机，这两个都是直接投影的，模版的分辨率多少，实际分辨率大约就是多少。
而第二步困难一些，等东北光学所慢慢搞就行，这是预想用于投影式光刻机的，搞个一年两年三年的都不是什么问题，搞不出来，接近式光刻机也够用了，搞出来了，那就纯赚了。
与此同时，某化学研究所，搞有机材料的同志也接到了十二机部关于光敏材料的研究要求，研究要求明确指明了，光敏材料可以是光聚合型、光分解型、光交联型中的一种，用于激光感光成像，工作光波长355nm。
十二机部还送来了一台激光器，以及简单的激光扩散配件，用作试验过程中的光源。
说实话，研究所的同志，还是第一次看到要求这么明确，连技术路线都给说得明明白白的要求文件。
甚至光交联型这种，他们也是看了要求文件里面的解释才搞清楚是个怎么回事儿。
要是所有的需求方都像这一家这样就好了，化学研究所的同志美滋滋的想，还能学东西！
其实这是高振东没办法，他不知道现在到底哪一种能搞成，总之65年这东西是有的，干脆把几种常见的光刻胶的路线都给写了上去，你做出来哪种算哪种，无非就是正胶负胶的区别，都能用。
一个技术刚兴起的时候，自由度是最大的，不用考虑太细节的东西，而且配套技术不用考虑技术路线的差别带来的性能差异，因为要求还没高到那份上，大概就是能用就行，整出来就算本事。
像日后光刻技术那一大堆高级技术在这个年代都不用考虑，根本用不上，也没条件用上。
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