默认冷灰
24号文字
方正启体

第一百九十四章 四十五纳米工艺突破 (3 / 6)

作者:雨天下雨 最后更新:2025/9/11 5:00:58
        吴德义教授一脸春风的站在徐申学面前:

        “这个S200芯片,是非常成熟的设计了,之前已经在联电那边成功流片并开始小批量的生产。”

        “使用成熟芯片来进行测试,也能够更好的检验我们自研工艺的技术指标!”

        “在这之前,我们其实也针对S100芯片进行了测试,试验获得了巨大的成功,根据我们这套工艺做出来的S100芯片,在主要技术指标上并不会比台积电,联电等工厂采用的制程工艺差。”

        “这一次采用技术难度更高的S200芯片进行流片测试,也是为了进一步验证我们的技术能力,以及良品率!”

        “之前S100测试的时候,我们的良品率还是有些差,为此我们已经进行了大量的改进,这个改进过程里光是专利就申请了三百多种,按照我们的预测,这一次的良品率应该能够达到百分之九十以上!”

        芯片工艺里,能造出来只是第一步,然后还要达到非常高的良率,这才具备实际的商用价值。

        如果良率太低的话,那么芯片成本就会非常高,缺乏市场竞争力。

        徐申学虽然不懂技术细节,但是对这些基本的东西还是有所了解的,他仔细听了后道:“辛苦吴教授了,这都多亏了你,不然我们是没那么快搞定这个四十五纳米工艺的!”

        吴德义这个四十几岁的中年人听到这话,却是呵呵一笑:“其实我也要谢谢公司,以前在意法半导体还有其他芯片工厂工作的时候,虽然也获得了一定成就,但是总归是跟在别人后头做事!”

        内容未完,下一页继续阅读
(←快捷键) <<上一章 举报纠错 回目录 回封面 下一章>> (快捷键→)

大家都在看?