徐申学：“这是大好事，回头等试产测试的时候记得通知我，我回头也去看看！”
光刻机的研发，其实是一个比较漫长的过程，并不是说样机搞出来就能用了。
海湾科技这边在去年十月份的时候，实际上就已经搞出来了第一台测试样机，但是这种样机只能用于一些子系统的技术验证，测试各种技术指标，看看造出来的产品能不能用。
距离实际投产还远着呢。
经过了持续半年的技术验证，调整改进，直到今年四月份，才算是搞出来了第一台真正意义上的样机，理论上可以用于生产的那种!
但也只是理论上！
实际上搞出来这种测试样机后，还需要进行反复的各种测试，调整，同时还需要晶圆厂方面的各种测试反馈，这个过程往往需要大半年甚至一年以上的时间。
而这，说的还是DUV浸润式光刻机这种成熟的，有着可以借鉴的光刻机。
如果是EUV光刻机，从测试样机到量产，得好多年呢。
ASML在几年前就已经向四星交付了第一代EUV光刻机，后续也向台积电交付了研究测试样机，这种交付的EUV光刻机，实际上就是研究测试用的，是没有办法用于芯片生产的，
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