哪怕再怎么遮掩，糊弄外人，但是自己心里都知道，这东西就是对着ASML的光刻机抄的。
此时王道林道：“不过我们这边也在持续进行技术研发，争取早日绕过这些专利限制，让我们的光刻机可以光明正大的出现在大众视野里，到时候，我们就推动我们的DUV浸润式光刻机走向海外，出口创汇去！”
徐申学笑呵呵道：“有这个信心很好。”
王道林一边和徐申学说着话的时候，前头的无尘车间里的第一台国产DUV浸润式光刻机也正在进行着试生产。
边上的丁成军也在说着这一次的试产规划：“目前我们正在试产的芯片，是集团里一种采用四十纳米工艺的逻辑芯片，这一次试产的目的主要还是看良率，效率这些性能指标，至于光刻精度的话，之前我们已经进行了大量的测试，是完全能够满足我们的四十纳米工艺的光刻机精度的！”
“并且我们的光刻机也具备了二十八纳米工艺所需要的套刻精度，不过在一些技术指标上还有所欠缺，现阶段采用二十八纳米工艺的话，会导致生产成本的比较大幅度的上涨。”
“甚至理论上，我们这台光刻机，也能勉强用于十八纳米甚至十四纳米工艺的生产，只是成本就太高了，不具备实际商业价值！”
“目前我们微电子这边的规划是，前期采购的这款HDUV-400型号，主要还是用于四十五、四十纳米乃至二十八纳米工艺的逻辑芯片，或者是部分四十纳米、三十纳米、二十五纳米工艺的储存芯片的生产！”
“这几个工艺节点上我们的订单也非常多，产能需求量大，足以给我们的400型光刻机起步订单了！”
“但前提是能够满足性能需求，不是勉强能用，而是要能大规模成熟使用，并成本可控，具备商业价值！”
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