智云微电子这边真正的下一代工艺节点，其实是十纳米工艺节点……不仅仅是智云如此，英特尔，台积电，四星都是把下一代工艺节点放在了十纳米工艺上。
目前在十纳米工艺节点上，智云微电子这边的进展还算顺利，第二十一号厂主体部分都已经完成，目前还处于设备的安装调试阶段，预计明年年中就能完成工厂的准备工作，然后配合工艺部门进行十纳米工艺的各种研发测试，一切顺利的话，后年第一季度将会大规模量产。
再往后的话，则是七纳米工艺了，这个更难一些，需要的时间也更久……毕竟这个工艺节点的话，使用DUV浸润式光刻机来生产，就需要采用四重曝光了。
而这种先进的光刻机，ASML那边预计要明年年初才能够陆续向智云微电子交货，不过一开始也就一台，然后陆续会交付第二台，第三台，预计一直要到后年第一季度，才会交货完毕。
整个交货时间，会拉长到一年以上！
交货期之所以拉着时间长，还是零星的一台一台的交货，那是因为先进DUV浸润式光刻机关系重大，几大半导体厂商现在斗法的很厉害，谁也不愿意落后。
而根据徐申学和美财团那边达成的临时口头协议，DUV浸润式光刻机这东西得轮流交货……大家都一起用！
不然就和EUV光刻机一样，大家都没得用！
因此ASML目前是同步向智云微电子，台积电，英特尔，四星这四家厂商提供这种先进光刻机，而且还是一台一台的轮流交货，直到初期这一批的订单交付完毕为止！
而这款ASML那边的先进DUV浸润式光刻机，足以满足四重曝光生产，能够用来生产7纳米芯片的光刻机……乃是智云微电子，同样也是其他几家半导体制造厂商搞七纳米芯片的关键设备。
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