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第三百四十七章 半导体产业会议 (10 / 12)

作者:雨天下雨 最后更新:2025/9/11 5:00:58
        HDUV-500A的套刻精度可是能达到三点五纳米,单次曝光分辨率能够达到三十八纳米,理论上甚至都能通过多重曝光搞等效十纳米工艺的光刻机。

        一个晶圆厂如果用这种光刻机都做不了二十八纳米工艺,那么还玩个啥的晶圆厂啊,回家种番薯去好了。

        要知道,智云微电子今年搞等效十纳米工艺技术认证的时候,用的也就是这款光刻机。

        同样的光刻机,人家可以玩十纳米,你连个二十八纳米都玩不了,还那玩个啥……

        不管怎么说,因为海湾科技的出现,再加上智云微电子也愿意放开一些成熟工艺的专利付费授权,让其他一些晶圆厂作为自己的附加产能。

        这都导致了国内的半导体制造行业发展迅速,一些老牌晶圆厂企业开始上马新工厂,新工艺,甚至也有一些创新公司出现,开始涉足半导体制造领域。

        尽管他们涉足的都是成熟工艺,甚至是落后工艺,但是这依旧是一个非常良好的现象。

        半导体领域里,先进工艺固然好,但是成熟工艺才是主流,哪怕十年后,130-250纳米工艺都还大有市场。

        55-90纳米工艺还是有一定市场份额。

        而28-45纳米工艺的市场,依旧属于主流市场。

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