不把技术难度吹高一些，怎么体现技术先进性？
说完了，智云微电子的等效七纳米工艺之后，徐申学才话锋一转：“我们耗费了无数的资金，无数工程师的努力最终才完善了七纳米工艺！”
“那么用这种工艺做出来的芯片是什么样的？”
徐申学这个时候，从口袋里掏出来了一枚小芯片：“这就是我们用最新的七纳米工艺制造的S903芯片，也是我们新一代S18系列手机上搭载的SOC芯片！”
“它拥有惊人的八十三亿个晶体管，但是体积却是只有上一代的S803芯片的百分之八十！”
“这是因为我们采用的七纳米工艺，其晶体管密度达到了每平方毫米一亿个，比上一代的十纳米工艺的每平方毫米五千五百万个，晶体管密度提升了一点八倍！”
“比十二纳米工艺提升了二点三倍！”
智云微电子里的十四纳米、十二纳米、十纳米，这三种工艺都是建立在双重曝光的技术基础上，严格来说，这其实是一种技术路线，但是在晶体管形状以及其他技术细节上进行了改进。
其中的14/12纳米工艺高度类似，连晶体管密度都差不多，只是十二纳米工艺的功耗更低，严格来说智云的12纳米工艺只是14纳米工艺的低功耗版本……低功耗可以把面积做的更大一些，芯片的晶体管总数更多一些。
因此采用十二纳米工艺的S703芯片，其体积是要比采用十四纳米工艺的S603更大的，带来的性能也更强。
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