徐申学对智云微电子的发展规划，还是相当满意的，他不管丁成军他们怎么搞，总之他就要看到最顶级，最先进的半导体工艺。
现在是七纳米，明年或者后年是五纳米。
而未来则是三纳米，甚至两纳米。
因为这背后，还有AI/APO系列为代表的各类算力芯片，S系列为代表的手机SOC都需要用到这些先进工艺呢。
视察的时候，徐申学还首次看到了采用第二代七纳米工艺，也就是HEUV-300B这种EUV光刻机生产的S1003芯片。
各种性能参数比使用第一代七纳米工艺的S903强了不少。
按照丁成军的说法就是，第二代七纳米工艺对比第一代七纳米工艺，可以提升百分之三十的性能。
如果维持性能不变，则是可以降低百分之二十的功耗。
而制造成本上，第二代七纳米工艺甚至比第一代纳米工艺还要更低……
因为第二代纳米工艺采用EUV光刻机，生产效率更高，良率也更高。
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