至于国内其他厂商，也就中芯那边订购了几台EUV光刻机，尝试进军更先进的十纳米工艺甚至七纳米工艺，而其他厂商的话则是没这胆子搞更先进的七纳米工艺了……
投资太大，技术难度太高，搞不来。
国内的很多半导体制造厂商，其实都还停留在四十五纳米工艺节点，二十八纳米工艺节点里。
现在能够做十四纳米工艺节点的国内半导体工厂，其实也就只有智云微电子、中芯这两家，其他厂商都还不行呢。
其实有几家国内的半导体厂商的硬件设备水平已经很不错了，不少都用上了HDUV-600B这种级别的先进光刻机，这种光刻机本身就是为了做双重曝光而研发的，很适合用来做十四纳米工艺节点的。
甚至只要技术能力牛逼的话，甚至都能和智云微电子一样用这种光刻机做等效七纳米工艺，也就是智云微电子宣传的第一代七纳米工艺。
但是……很多厂商都是用这种先进光刻机用来生产二十八纳米工艺，撑死了也就探索研发二十二纳米工艺而已，距离十四纳米工艺还早着呢。
菜刀再好，厨子本身的厨艺不行也做不了一桌子好菜！
国内的其他半导体厂商，都是做中低端半导体制造为主，有点野心做先进工艺的只有中芯了。
他们和智云微电子的技术差距太大了！
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