此外还有3DNAND的闪存工艺，也用来生产智云的闪存颗粒。
在内存领域里，智云微电子的工艺水平已经稳定生产三十纳米工艺，并且二十五纳米工艺的试生产也已经获得成功，正在开启二十五纳米工艺内存的量产计划。
在逻辑芯片以及储存芯片这两大核心领域里，智云微电子的技术水准都是能够跟上世界第一梯队的。
而这些在徐申学看来，都是自己这几年辛辛苦苦播种之后结出来的果实！
唯一让徐申学不满，乃至担忧的是，结出芯片果实的这些先进晶圆厂，使用的各类设备以及耗材，绝大部分都是进口货，非常容易被卡脖子。
比如典型设备光刻机，清一色的是荷兰ASML的DUV浸润式光刻机，目前也只有该公司生产的DUV浸润式光刻机，才能够满足三十二纳米/二十纳米工艺的芯片生产。
海湾科技研发出来的HL-ARF6508型DUV干式光刻机，可没办法干这个活！
哪怕采用双重曝光技术也非常困难，这里头还有着套刻精度的要求，海湾科技的第一台DUV干式光刻机，套刻精度只有八纳米，而根据海湾科技方面的技术研究，想要搞双重曝光的话，至少也得5.6纳米的套刻精度，这样才能够通过双重曝光做出来四十纳米的工艺。
很可惜，目前的海湾科技的光刻机套刻精度，还达不到这个程度。
就算能达到，也没啥实际用处。
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