反正国内的基础技术也到位了，那么就自己砸钱，然后再加上科研系统辅助，争取尽快把DUV干式光刻机给弄出来……
DUV干式光刻机，可以用来生产九十纳米以及六十五纳米工艺这两个工艺节点的芯片。在最近几年还是有一些市场的，早点弄出来好歹喝点汤水回点本钱！
如果晚几年的话，连汤水都没得喝了。
徐申学仔细翻看了技术资料后，又道：“还有DUV浸润式光刻机，这东西更重要，技术进度也不能落下！”
DUV干式光刻机，注定是落后技术了，而DUV浸润式光刻机虽然在几年后也会落后，但是好歹十几年后还能用啊，继续推进技术的话，未来是能够达到等效七纳米工艺水平的。
因此徐申学对这玩意更关注。
王道林这个时候倒是面露为难：“我们现在也在推进DUV浸润式光刻机的开发，但是这个难度比预估的还要更大！”
徐申学道：“难也要搞，而且是要尽快搞出来。”
听到徐申学这么说，王道林当即道：“徐懂你放心，我们一定努力做，而且等我们先把DUV干式光刻机弄出来后，很多技术都是共同的，光源，工作台，透镜这些关键子系统都已经有了，回头我们再解决浸润问题就行了，资金充分的话给我们几年时间，肯定能做出来。”
徐申学道：“好，我期待你们的好消息。”
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