如中芯在十四纳米工艺以及二十八纳米工艺领域的投入就非常大，其产能扩充比较快速。
并且还在继续进行技术攻关搞等效七纳米工艺，而且搞得听说还比较顺利……他们的技术虽然比较一般，但是他们在设备上不受限的，他们可以在国内就采购到仙女山控股旗下的EUV光刻机以及其他各类顶级设备！
中芯那边的实力，目前想要使用DUV浸润式光刻机的四重曝光工艺搞等效七纳米工艺，那么难度还是非常大的。
在某个时空里他们也买不到EUV光刻机，没办法，只能死磕DUV浸润式光刻机的四重曝光工艺。
但是在这个时空里可用不着这么干，他们完全可以使用海湾科技提供的HEUV-300系列光刻机来搞等效七纳米工艺，而这技术难度可就低多了！
技术不行就用顶级设备搞嘛，典型的力大飞砖模式……HEUV-300B以及C型光刻机的波长只有十三纳米纳米呢……用这种顶级设备都搞不出来等效七纳米工艺可就要简单多了。
当然，作为后来者也会面临很多专利问题！
智云微电子，台积电，四星，英特尔等厂商在前头构筑了大量专利墙呢，想要绕过去寻找一条新路也不是那么容易的。
不过就算再难，也比用DUV浸润式光刻机强行搞七纳米工艺更简单。
除了中芯外，国内的其他几家半导体制造企业也是在大力扩充成熟工艺产能，主要聚焦在二十八纳米到九十纳米工艺之间，同时也有很多半导体企业涉足储存芯片领域。
储存芯片也不是只有智云储存搞的顶级储存芯片，同样也需要海量的中低端储存芯片……怎么说呢，一件电子产品需要逻辑芯片的同时大概率也需要储存芯片，两者是同时使用的。
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