张宝根信他的话，因为他知道阿美造出投影式光刻机还要等到1975年。
“这一次成功最主要的还是感谢上级的支持，尤其是在研发资料和指导方向上的支持！”
站在投影式光刻机前，许教授感慨万千的在发言。
“如果没有上级提供的那些资料和研究方向的指导，我们这个项目需要消耗的时间起码以五年起步计算。”
“额外支出的实验耗材金额，肯定也会达到上亿规模！甚至更多！”
接着他豪情万丈地指着自己身后的这台投影式光刻机。
“众所周知，当今世界制造芯片大规模在使用的还是接触式光刻机。”
“其工作原理是将制作有电路图案的掩模板紧贴在涂有光刻胶的硅片上，然后进行曝光。”
“这种光刻机最大的缺点是，因为接触的缘故很容易导致硅片、掩模板被划伤和污染。”
“所有拥有这种光刻机的厂商都在头疼，很可能因为一颗微小的灰尘就能毁掉一个掩膜板和一批芯片。”
“所以有少数几家大公司正在研发用接近式光刻机。”
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