“所谓接近式光刻机，是让掩模版与硅片保持到十到二十微米的间距进行曝光。”
“但问题正是由于有这个间隙，很容易导致曝光时产生衍射，造成曝光出来的电路板纹路边缘模糊。”
“投影式光刻机是六十年代被人提出的一种概念，通过缩小头像，精准的解决了衍射问题！”
“同时因为曝光区域的增加，可以使得硅片大小从二英寸向三到四英寸发展。”
许教授推了推自己的眼镜，声音有些微微发抖。
“但最重要的是我们通过投影式光刻机能获得亚微米级别的曝光效果！”
“从今天开始，我们国家生产的芯片将站在整个世界的最前端！”
“因为我们制造出的同规格芯片，精度更高，体积更小，性能高，功耗低，可靠性也更高！”
室内掌声如雷鸣般轰动。
张宝根也在跟着拼命的鼓掌。
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