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第三百四十七章 半导体产业会议 (2 / 12)

作者:雨天下雨 最后更新:2025/9/11 5:00:58
        当时电视报道画面,徐申学都只能站在一旁担任解说,为一群来宾介绍海湾科技的HDUV-400型光刻机,陈述该型光刻机的重要历史意义以及现实意义。

        现在报道HDUV-600型光刻机的待遇,说实话都差了点……不过好歹也是关键技术突破,所以常规报道还是会有的。

        HDUV-600型研发成功并交付量产,这让国内很多人,尤其是一些自诩业内人士都感叹:是我太保守了。

        前几年海湾科技搞出来HDUV-400型号光刻机的时候,也引起了一片舆论的狂欢,不少业内人士也积极参与讨论。

        当时也有相关的探讨,那就是:

        海湾科技的光刻机,什么时候才能够追上ASML的水准。

        毕竟当时的HDUV-400光刻机,其性能也就大概和NXT-1950相当。

        而NXT1950出现的时候,那已经是2008年的事了,而该款光刻机也是推动半导体的芯片工艺从以往的六十五纳米,下探到32/28纳米工艺的核心设备。

        或者说,正是因为有了这款光刻机,才让32/28工艺具备了大规模量产的可行性。

        海湾科技可是花了好多年才弄出来了核心性能相当,但是生产效率还差一些的HDUV-400型光刻机……但是,这款光刻机历史意义重大,因为该款光刻机的出现,意味着海湾科技突破了一系列DUV浸润式光刻机的关键技术。

        当时,人们所畅想的是,海湾科技继续努力,争取三年一个台阶,在解决28纳米工艺之后,三年内解决可以进行双重曝光,能够把工艺下探到10-22纳米工艺的光刻机。

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