至于更进一步，甚至能够进行四重曝光的光刻机，乐观估计，五年内能够解决就是巨大的胜利。
但是让人没有想到的是，海湾科技在突破了DUV浸润式光刻机的关键技术后，在小型号的快速迭代上进展迅速，几乎一年一个台阶。
去年推出HDUV-500型光刻机，把套刻精度做到了三点五纳米，实现了双重曝光的基本需求，可以用来做十四纳米工艺的芯片，一开始的性能上基本和NXT1965相当，但是不太成熟。
后来海湾科技推出了升级型号HDUV-500A，虽然工作台产能一样，不过性能更好，更稳定，这款光刻机的性能除了产能低一些，其他性能指标基本上和NXT1970持平。
而智云微电子以及隔壁的中芯，还有国内其他一些芯片厂商大规模采购的海湾科技的先进光刻机，其实都不是HDUV-500型号，而是HDUV-500A型。
去年搞出来500型号就已经够夸张的了，结果海湾科技愣是在今年六月份的时候，就交付了更新一代的HDUV-600型，把套刻精度直接拉到了二点五纳米的水准。
这一型号的核心性能水准，已经和NXT1980相当了……虽然还是有着老毛病，因为工作台不太行，所以生产效率低，后续的维护也会比较麻烦，但是还是太吓人了。
而要知道，虽然去年ASML就已经搞出来了NXT1980光刻机，但实际上大规模出货也是在今年年初而已。
而海湾科技的同级别光刻机大规模出货，则是迟了半年左右！
这意味着，双方之间的差距从之前的十多年，再到四五年，然后又缩小到了现在的半年。
这一系列的技术进步速度，让很多人都感觉到不可思议。
内容未完，下一页继续阅读