并且在徐申学的大量资源投入下，大量科研人员的日夜奋斗之下，这款光刻机的技术进行了非常快速的迭代，从一开始的勉强可用的基本状态，再到改进型A型号，再到完善型号B型号。
等到HDUV-600B型的时候，其基本性能已经完全不弱于ASML的同级别NXT1980光刻机，也就是无故障时间短了点，后期维护稍微麻烦一些。
但是在生产效率，制造精度上已经属于同一层次了。
HDUV-600型光刻机，可以说是海湾科技在DUV浸润式光刻机里的集大成者，技术非常完善，采用双次曝光可以应用于等效10-14纳米工艺，采用四重曝光技术的话，则是可以用于等效七纳米工艺。
该款HDUV-600光刻机目前是海湾科技的浸润式光刻机出货主力型号，哪怕单价达到八千多万美元累积订单已经超过了五十台。
不过目前因为产能稀缺，所以暂时也只有一个客户，那就是智云微电子，其他客户都得排队等着。
智云微电子目前采用这款光刻机，用来生产等效七纳米工艺的芯片，而后续则是会用于10-14纳米工艺的产能扩充上。
毕竟这款光刻机虽然可以使用四重曝光技术，但实际上使用双重曝光才是它的主要任务，也更加适合。
采用这款光刻机生产10-14纳米工艺的芯片，效率更高，成本也更低。
未来很多年里，HDUV-600型光刻机都将会是智云微电子的主力生产光刻机，因为等效10-14纳米工艺在很多年里都不会过时，研究半导体市场的分析师认为，未来十年内等效10-14纳米工艺依旧会是主力工艺，占据主要的半导体市场份额。
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