基于智云微电子的庞大需求以及国内其他半导体制造厂商，如中芯，北微等厂商的需求，未来这款光刻机的需求量会持续很多年，销量不会低的。
再加上虽然性能落后一些，但是价格也更低，适合生产成熟工艺的HDUV-500以及HDUV-400。
三款HDUV系列光刻机一起，承担起来了海蓝科技光刻机项目的主要营收以及利润来源，也承担起来了华夏的半导体制造业的核心设备的重任。
当然，现在的DUV浸润式光刻机已经不是什么卡脖子，也不是前沿顶级的技术了，目前徐申学和老美那几家财团竞争的是EUV光刻机为核心的下一代半导体制造技术。
以EUV光刻机为核心的下一代半导体制造技术，将会用于等效七纳米工艺以及五纳米乃至更低工艺节点的未来逻辑芯片制造上。
同样在储存芯片上，未来想要继续往下进行技术突破，也需要依靠分辨率更小的EUV光刻机。
目前智云微电子旗下的顶级内存生产工艺‘10B’工艺，实际工艺节点是十六纳米……而这个工艺节点已经逼近了HDUV-600B型光刻机的物理极限。
在采用EUV光刻机之前，已经很难再往下进行技术突破了……
未来的预定的10C工艺以及10D工艺，都是需要采用EUV光刻机来支撑的。
同样的闪存芯片领域也同样如此，目前智云微电子旗下制造闪存的顶级工艺，也是使用的HDUV-600B光刻机，其手机产品将会在今年随着新一代的S18手机推向市场。
内容未完，下一页继续阅读